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今天为大家讲述芯片的制造与设计,看看我国国内的高端芯片的真实水平!哪一个环节我们还有短板,能不能迎头赶上!
芯片的制造。它主要分两大块,一个是设计,一个是制造
有些公司自己设计和制造都能做,这些公司就厉害得不得了!
比如美国的英特尔,咱们的电脑CPU大部分都是英特尔的,还有韩国的三星。大部分的公司要么只有设计能力,要么是只有制造能力!
比如华为的海思就是这样,海思公司的设计能力已经达到国际的顶尖水平了。在arm这个架构的设计上已经可以和高通掰掰手腕了!但是华为海思没有制造的能力,高端芯片第一步就是要设计,设计是一个非常复杂的工程。就比如一个城市,如果一个干道上一个红绿灯的设计不合理,就很有可能引起堵车,更何况在一块芯片上。数亿的晶体管,多少的电路密密麻麻的。对于这些晶体管如何去调度,怎样高效地让它们运作。这极具技术含量!在高端芯片的设计领域,华为的海思已经达到了国际顶级水平,也是我们国内的最高水平了,但是海思也是有短板的。
芯片的设计主要植根于架构。我们都听说过,全球上有两个主要的架构,电脑的CPU主要是X86,手机上的芯片主要是ARM。这两大主要架构都不属于我们的,咱们也只是买别人的授权。有些朋友,读者可能对架构这个有些疑惑。为什么设计一个芯片必须要植根于一个特定的架构,在这我给大家简单的举个例子说明一下。比如说,这个广场上有辆车,你要去指挥他们,你就需要给这些车主下命令。这个命令就是指令,一系列的指令组合起来叫指令集也称为架构。全体倒车,这辆车齐刷刷的挂起倒挡向后倒车。一队向前开一点,就有10辆车向前方开,二队向右行驶等等这些。如果没有这些命令,这辆车就像废铁一样,什么活都干不了!另外,在基于特定的架构去设计芯片的时候,一定要高效的利用这些命令,也就是指令集。比如说一队向前方行驶,那么你在设计的时候就要在一队的前方给它留出空地来,可以让它向前行驶!这就是指令集在芯片设计中的基础性作用,我们在这方面是一个短板。有朋友可能会问,我们有没有自己的指令集。这个肯定是有的!比如我国的龙芯,龙芯采用的指令集,就是我们完全自主的。但是暂时来看效率不太高,华为现在也在研发属于自己的指令集,特别是在未来的云计算和AI计算。我们正在采用一个叫做RISC-V的指令集,这是我们今后的发展方向。但是就目前为止,主流的指令集还是使用国外的。另外在芯片设计上我们还有一个短板,我们使用设计的软件,没有国产的,另外设计芯片的测试方面,你不可能等芯片制造出来才进行测试!成本过于高。芯片的仿真测试软件,我们也没有,其实这方面也不要太过于大惊小怪,我们在软件这方面确实短板是比较大的,我们也别说高端的设计工业,就是民用上用的正常做一个图的PS软件。我们也不占优势。这个都需要我们的软件工作者奋起直追!在某些领域我们的设计能力已经达到世界的顶级水平了,但是!设计芯片的根本就是指令集,我们还没有一个成熟有效的指令集是属于我们自己的,设计需要用的工具(软件)还需要依赖于国外。
说完设计,接下来我们谈谈制造了。制造芯片世界上最强大的芯片代工厂是台积电!这个大家也不陌生。咱们国内最好的芯片代工厂是中芯国际,中芯国际肯定是落后于台积电的,在量产的这个层次上落后一代,中芯国际14纳米已经投入量产了,然而台积电是7纳米。但是在研发上要落后两代甚至是三代。台积电现在已经在研发5纳米甚至是3纳米的制程了,我们还没开始。聊完制造工厂的差距后,我们从工艺上一步一步地往下说。
首先就是原材料,晶圆(沙子提炼出高精度的单晶硅,做成硅锭。然后硅锭进行切割,切割成一片一片的晶圆)这方面技术我们国内是有的,而且是世界的先进水平。晶圆制作出来之后,就要往上涂一层光刻胶!这一层胶,目前是被日本与美国垄断的,日本的信越和美国的陶氏化学属于垄断地位。我们国内的光刻胶只能从事一些中低端的集成电路制作,在高端芯片上是空白。没有!把光刻胶涂在硅片上,这需要一个仪器叫做涂胶显影机,目前也是日本在垄断。我们国内没有。把胶涂在硅片上后,很多朋友,读者就知道接下来要进行什么了。对,没错!光刻机。很多朋友认为这是我国最大的短板,特别是高端的光刻机。
光刻机这个产品,是集人类物理学,化学,电学,光学包括机械最高科技水平的结晶。这个世界上,高端的光刻机,没有任何一个国家能单独把它造出来!光刻机上使用的光源,加工7纳米制程的光刻机,光的波长要非常非常短,肯定要远远小于7纳米,只能采用极短的紫外线光!目前这个光源是美国垄断的。然后光线要通过镜片,这个镜片目前顶级光刻机,采用的是德国的蔡司镜头,搞摄影的朋友和读者都知道,世界上没有任何一家公司。论光学镜片的加工能超过蔡司的。另外,紫外线光通过镜片后光斑很小,也就是一个指甲盖那么大。但是晶圆很大,晶圆现在的尺寸现在大概12英寸。很明显光源是无法覆盖这个晶片的,那怎么办!只能这一片晶片在不停的移动,曝光一个地方后移动去曝光另外一个位置,始终这样不停的移动,不停的曝光。这种高精度的移动,它的精度要求有多高呢?我给大家举个例子,我现在人在北京,手里拿了一个篮球,篮板和球网在上海。我在北京投篮直接投到上海,要精准地落在篮网里面!精度要求就是这么高!这就是现在人类机械工业所能达到的精度的顶峰!国内的机械水平怎么样,我相信大家也是清楚的,好点的轴承都还需要进口。所以在光刻机上面,世界上高端光刻机只有荷兰的ASML公司能够生产。不是说荷兰的ASML公司他的技术有多高,而是他集成了这个世界上所有的高科技于一身。高端光刻机80%以上的零部件,都是从世界各地进口来的。ASML公司只是把它组装起来。高端光刻机并不是政策支持,投入巨额现金!我就能造出来,这个是不可能的。在这只是请大家认清这个客观的现实。低端光刻机我们还是可以制造出来的,在这就不多说了。
经过光刻机曝光之后呢,光刻胶有一层被洗掉,有一层继续在晶圆的表面。它就继续保护着晶圆的表面,然后蚀刻机就开始出动了。蚀刻机就是把露出表面的晶圆,把它刻成一条一条的凹槽,往晶圆里边注入别的元素,就需要凹槽!磷元素注入凹槽就会和硅元素形成一个N结,硼元素注入凹槽后就和硅元素形成P结。我们知道芯片上,成千上万的晶体管其实就是一个又一个PN结,这些PN结就构成一个又一个的门电路,在凹槽里面注入磷·硼元素就是为了形成一个又一个的PN结,当然这个步骤分两步走的,先刻槽·注入磷形成N结,然后把晶圆冲洗干净。再涂一层光刻胶,再进行曝光,再刻槽,然后注入硼元素形成P结。这两个步骤,就需要两种不同的机器。第一个就是蚀刻机。蚀刻机中国制造水平是处于世界的先进水平的,我们还是有先进行业的。国产的16纳米的蚀刻机已经投入量产了,7到10纳米的蚀刻机也能造得出来,居于国际的先进水平!但是在注入这些磷和硼元素的机器,它叫做离子注入机。这方面日本现在是处于垄断地位,没有哪个国家的水平比日本还要高。PN结形成后,还要依靠离子注入机,注入一些金银铜等元素形成导线,把一个又一个PN结连接起来。形成电路。大概就是这样一个原理,当然了具体的程序肯定是非常复杂的。
芯片制作成了之后还需要切割,切割成一个一个单独的芯片,然后进行封装。这些都是处在芯片制作行业的末端了,没有太高的技术含量。咱们国内的技术水平完全可以实现,做成一个又一个芯片之后,还要进行测试。测试结果要和你设计的仿真软件的结果是一致的,才可以交工。这就是整个芯片的制作过程!简单地说我国目前处于世界一流水平的只有蚀刻机,其他方面还仍需努力!
接下来我们简单的说下我国高端芯片怎么迎头赶上,怎样去追!这个高端芯片,发展到今天其实已经前面的路越来越窄了。台积电现在已经在研发5纳米和3纳米的工艺,3纳米才多大呢,其实就是十几个原子或者几十个原子的宽度。再往下研发,就要面对一个非常重要的问题,叫做量子效应!经典的物理学到量子物理学里边就完全不起作用。简单的举个例子吧,设计芯片的时候,设计的PN结,按照我的设计,这个PN结在符合某种要求的情况下应该导通。理论设计是没有问题的,但是如果说制程非常小,一纳米左右就会发生各种各样的问题,理论上他应该导通,实际上它可能导通,也有可能不导通。之所以会这样,因为量子的世界,它是测不准的。它和你设计理论分析已经没有必然的联系了。你设计得再好,到了量子世界,完全可能会出现另外一个结果。这就意味着国际的先进水平,随着制程的缩短,前面所能走的路是越来越窄,速度会越来越慢,已经到了天花板了,咱们在后边追,这个路暂时还是宽的,我们还可以跑得很快。另外,咱们还有一条捷径可以走,就是量子计算。量子计算这方面,咱们国内的研究水平居于世界的领先地位,我们完全可以从量子上面实现弯道超车,赶上世界先进水平。
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